क्या सिलिका खाद्य में प्रयोग किया जा सकता है?

बना गयी 2024.11.28

क्या सिलिका को खाद्य में प्रयोग किया जा सकता है?

एक पेशेवर वेब अनुवाद सहायक के रूप में, सिलिका को खाद्य में उपयोग किया जा सकता है, लेकिन सीमाएं हैं। सिलिका डाइऑक्साइड का खाद्य उद्योग में एंटी-कोएगुलेशन एजेंट, डीफोमर, थिकनर, फिल्टर एड और क्लैरिफाइंग एजेंट के रूप में उपयोग किया जाता है। चीन का "खाद्य योजना के लिए स्वास्थ्य मानक" (GB2760-2014) निर्धारित करता है: अंडे पाउडर, पाउडर चीनी, दूध पाउडर, कोको पाउडर, कोको बटर, प्लांट पाउडर, तुरंत कॉफ़ी, सूप पाउडर आदि में उपयोग किया जा सकता है, अधिकतम उपयोग 15 ग्राम/किलोग्राम है; पाउडर सुगंध, अधिकतम उपयोग 80 ग्राम/किलोग्राम है; ठोस पेय, अधिकतम उपयोग 0.2 ग्राम/किलोग्राम है; अनाज, 1.2 ग्राम/किलोग्राम।

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सिलिका डाइऑक्साइड एंटीकोगुलेंट में से एक है। एंटी-केकिंग एजेंट्स, जिन्हें एंटी-केकिंग एजेंट्स के रूप में भी जाना जाता है, वे पदार्थ हैं जो कणों या पाउडर वाले भोजन को एकत्रित होने से रोकने और उन्हें ढीले या मुक्त-बहावी रखने के लिए प्रयोग किए जाते हैं। इसके कण धीमे, ढीले और खुले होते हैं, मजबूत अवशोषण बल होता है, और आसानी से अवशोषण होता है जिससे वितरित नमी, तेल आदि का गठन होता है, ताकि भोजन पाउडर या कण स्थिति बनाए रख सके।

सिलिका डाइऑक्साइड को एंटी-कोगुलेटिंग एजेंट के रूप में उपयोग किया जाता है, मुख्य रूप से अंडे का पाउडर, दूध का पाउडर, कोको पाउडर, कोको बटर, चीनी का पाउडर, प्लांट फैट पाउडर, तुरंत कॉफ़ी, पाउडर सूप और पाउडर फ्लेवर में प्रमुख रूप से उपयोग किया जाता है। तापमान परिवर्तन, आर्द्रता बढ़ना या पैकेज के बीच स्टैक दबाव के कारण, खाद्य पाउडर आसानी से एक साथ चिपक जाता है और गुठली हो जाता है, जिससे उत्पाद की गुणवत्ता और भंडारण अवधि प्रभावित होती है। खाद्य में सिलिका का उपयोग एंटी-केकिंग भूमिका निभा सकता है, जो मुख्य रूप से खाद्य पाउडर कणों को पैकेजिंग के माध्यम से अलग करने के माध्यम से होता है, पाउडर को सर्वोत्तम मुक्त प्रवाह स्थिति में रखने के लिए, एंटी-केकिंग का उद्देश्य प्राप्त करने के लिए। इसके अतिरिक्त, पाउडर में लपेटे गए सिलिका में आस-पास के हवा की नमी को अनेक आंतरिक छिद्रों के साथ अवशोषित करता है, भंडारण के दौरान खाद्य को गीला होने और गुठला होने से रोकता है।

सिलिकॉन डाइऑक्साइड नैनोपाउडर

उत्पाद अवलोकन

नैनो-सिलिका की मौलिक संरचना SiO2 है, जो अमॉर्फस सफेद पाउडर है, और माइक्रोस्ट्रक्चर गोलाकार, फ्लोक्युलेंट या जालीय अनुकृति अवस्था हो सकती है। इसके सतह पर असंतृप्त अवशेषीय बंधन और हाइड्रॉक्सिल समूहों की उपस्थिति उसे विभिन्न अनुपातों में उत्कृष्ट बनाती है। नैनो सिलिका की तैयारी के लिए तीन मुख्य विधियां हैं, जिसमें शामिल हैं: निकासी विधि: सिलिकॉन हैलाइड का उच्च तापमान हाइड्रोलिसिस करके हाइड्रोजन और ऑक्सीजन ध्वनि में नैनो सिलिका उत्पन्न करना। सॉल-जेल विधि: प्रीकरण के रूप में सिलानॉल का उपयोग करके, उपयोग करने के लिए हाइड्रोलिसिस और संघनन सॉल और जेल बनाने के लिए और फिर शुष्कीकरण और शोधन करने के लिए नैनो सिलिका प्राप्त करना। वाष्प चरण विधि: उच्च तापमान में सिलिका हैलाइड को ऑक्सीहाइड्रोजन ध्वनि में हाइड्रोलाइज करके नैनो सिलिका उत्पन्न करना।

तकनीकी पैरामीटर

फॉर्म: सफेद पाउडर

शुद्धता: 99%

अणु का आकार: 20 नैनोमीटर

विशिष्ट पृष्ठ क्षेत्र: 145-160 मीटर वर्ग/ग्राम

इस उत्पाद की सतह पर कई हाइड्रॉक्सिल समूह हैं और अच्छी जल अवशोषण है।

उत्पाद विशेषताएँ

उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र: छोटे अणु आकार के कारण, नैनो-सिलिका का एक बहुत उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र होता है, जिससे इसे अधिक सक्रिय स्थल प्राप्त होते हैं।

अवधारण: यह कार्यक्षमता को अल्ट्रावायलेट, दृश्य और इन्फ्रारेड प्रकाश को सफलतापूर्वक प्रतिबिम्बित कर सकता है, इसलिए यह यूवी संरक्षण की आवश्यकता वाले कई अनुप्रयोगों में बहुत उपयोगी है।

नैनो-सिलिका की अच्छी जैव-संगतता है और इसे बायोमेडिकल क्षेत्र में प्रयोग किया जा सकता है।

उत्पाद एप्लिकेशन

इलेक्ट्रॉनिक पैकेजिंग सामग्री: इसकी उच्च विद्युतवासी, उच्च ताप प्रतिरोध, उच्च भरने की क्षमता और अन्य विशेषताओं के कारण, इसे इलेक्ट्रॉनिक और इलेक्ट्रिकल उद्योग में व्यापक रूप से प्रयोग किया जाता है।

रबर संशोधन: रबर उत्पादों की तांसिल ताकत, फाड़ प्रतिरोध और पहनने की प्रतिरोधता में सुधार करें, और रबर के प्रदर्शन को काफी बेहतर बनाएं।

परत और चिपकने वाले: परत और चिपकने वाले की रैयोलॉजिकल और थिक्सोट्रोपिक गुणों को बेहतर बनाने के लिए प्रयोग किए जाते हैं, उनकी विरोधी-बैठने और मोटाई बढ़ाने के प्रभाव को बढ़ाते हैं।

ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स: इसका व्यापक उपयोग ऑप्टिकल सेंसर्स, सोलर सेल्स, डिस्प्ले टेक्नोलॉजी आदि में किया जाता है, जैसे कि डाई-सेंसिटाइज्ड सोलर सेल्स की फोटोइलेक्ट्रिक परिवर्तन क्षमता को बेहतर बनाना।

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